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22.03.1985

Matsushita entwickelt Material für Mega-Chip

TOKIO (vwd) - Ein neues Ausgangsmaterial für hochintegrierte Schaltkreise der nächsten Generation hat die Matsushita Electric Industrial Co. entwickelt, Das aus wasserlöslichem Fotopolymer bestehende Material könnte die geeignete Ausgangsbasis für die Herstellung von "ultra large-scale integrated circuits" sein, die für die kommende Generation von Mega-Chips mit 4 und 16 MB benötigt werden, sagte ein Matsushita-Sprecher. Matsushita hat diese Technologie für das Drucken von Schaltkreisen im Submicron-Bereich gemeinsam mit der Hayashibara Biochemical Laboratories Inc. entwikkelt.