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07.01.1983 - 

Hohe EG-Zölle führen zu inländischer Produktionsstätte:

Toshiba baut Halbleiter in Braunschweig

TOKIO (VWD) - Toshiba will nach Hitachi als zweiter japanischer Elektronikkonzern Halbleiter in der Bundesrepublik produzieren. Toshiba-Vizepräsident Teruyuki Nishijima erläuterte in Tokio, daß im Januar in Braunschweig mit dem Bau der Anlage und Ende 1983 mit der Produktion begonnen wird. Bis 1985 sollen in dieses Projekt insgesamt 32 Millionen Mark investiert werden.

Nach Angaben von Nishijima sollen in der Toshiba Semiconductor G.m.b.H. mit 50 bis 100 Beschäftigten zunächst MOS-Standardspeicher wie statische RAM mit einer Speicherkapazität von 16 KBit beziehungsweise 64 KBit gefertigt und getestet und später in das Produktionsprogramm unter anderem auch Mikrocomputer aufgenommen werden.

Die Kapazität von monatlich einer Million Bauelementen ab 1984 soll innerhalb von drei Jahren verdoppelt werden. Als einen der wichtigsten Gründe für den Bau der Anlage in Braunschweig nannte Nishijima die hohen EG-Zölle für Halbleitereinfuhren und wies außerdem darauf hin, daß die Bundesrepublik für ein Drittel des EG-Bedarfs aufkomme. Die japanischen Hersteller haben am westeuropäischen Halbleitermarkt nach eigenen Angaben einen Anteil von rund zehn Prozent, Toshiba allein von rund zwei Prozent.

Noch im Sommer war die Rede davon gewesen, daß ein japanisches Großunternehmen in Hildesheim Halbleiter fertigen wolle. Auch damals wurde Toshiba genannt. Ob das Land Niedersachsen bei dieser Industrieansiedlung Fördermittel einsetzen werde, war damals noch völlig offen. Braunschweig hat sich gegen einen Standort in Österreich durchgesetzt, der im Sommer noch im Gespräch war.