Grenzüberschreitung in den Nanobereich
Die Mikroelektronik mit ihren aktuellen Prozessoren hat schon länger die Grenze zum Nanobereich unterschritten. Von Nanotechnologie spricht man, wenn die (Transistor-) Abmessungen deutlich unter 100 nm (10-9m) liegen. Aktuelle Prozessoren von Intel mit ihren 65 nm will der Hersteller bis zum Jahr 2015 auf nur 22 nm Strukturgröße verkleinern.
Die optische Lithografie stößt dabei an physikalische Grenzen, auch wenn schon heute spezielle Laser verwendet werden. Beim 65-nm-Fertigungsprozess von Intel (P1264, Low-Power P1265) kommt beim Belichtungsprozess ein 193-nm-Laser zum Einsatz. Die Wellenlänge des emittierten Laserstrahls ist also größer als die zu belichtenden Strukturen. Hier arbeitet man mit speziellen Tricks, wie „Optical Proximity Correction“ (OPC), „alternating Phase Shift Masks“ (altPSM), das heißt fokussierende Linsen und Immersionsschichten aus Wasser.
Während man bislang davon ausging, dass die Grenzen der Machbarkeit bei 32 nm erreicht sein sollten, gelang Forschern vom IBM-Labor im kalifornischen San José der Schritt bis auf 29,9 nm. Damit lässt sich die bewährte Technologie der Fotolithografie mit ultraviolettem Licht noch etwas länger nutzen, als es die Roadmap der Chipentwickler bisher vorgesehen hat.